實驗設備

ALD原子層沉積系統(R-200 Standard)

Picoson™R-200高級ALD系統是全球領先的先進ALD研究工具市場。它已成為高校和科研院所在創新驅動下選擇的最佳工具。

靈活的設計使最高質量的ALD薄膜沉積與最終的系統靈活性,以適應未來的需求和應用。專利的熱壁設計,具有完全獨立的入口和儀器,使無顆粒處理能夠適用于各種材料的晶圓、三維物體和所有納米級功能。即使在最具挑戰性的多孔、超高寬高比和納米顆粒樣品上,也能獲得出色的均勻性,這歸功于我們專有的Picoflow™技術。

襯底尺寸和類型:
50 – 200 mm /單片
156 mm x 156 mm 太陽能硅片
3D 復雜表面襯底
粉末與顆粒
多孔,通孔,高深寬比(HAR,1:2500)樣品
Roll-to-roll , 襯底最大寬 70mm

典型工藝:
Al2O3, TiO2, SiO2, Ta2O5,
HfO2, ZnO, ZrO2, AlN, TiN,金屬 Pt 或 Ir 等
 
工藝溫度:
50°C– 500°C, 可選更高溫度;等離子體450°C,650°C,可根據需要加熱卡盤
 
基片傳送選件:
氣動升降(手動裝載)
預真空室安裝磁力操作機械手(Load lock )
半自動裝載,用PICOPLATFORM™200集群系統實現
25片晶圓盒對盒式全自動裝載(cassette-to-cassette),用PICOPLATFORM™200集群系統實現
 
前驅體:
液態、固態、氣態、臭氧源、等離子體(最多4路氣體)
6根獨立源管線,最多加載12個前驅體源(加上Plasma管路,共7根獨立源管線)
 
尺寸( W x H x D):
取決于選件
最小146 cm x 146 cm x 84 cm
最大189 cm x 206 cm x 111 cm
 
選件:
集群工具,PICOFLOW™ 擴散增強器,集成橢偏儀,QCM,RGA,超高真空兼容,N2發生器,尾氣處理器,
定制設計,手套箱集成(用于惰性氣體下裝載)

上海譽光光電科技有限公司 版權所有 ?滬ICP備13017429號-1

腾讯彩票中奖怎么领取