生產設備

ALD原子層沉積系統(P-1000)

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PicosunP-1000 ALD系統設計用于批量噴涂各種3D物品,如機械零件、玻璃或金屬板、硬幣、手表零件和珠寶、透鏡、光學器件和醫療設備。

技術特點:

典型基板尺寸和類型:

各種三維物品,如機械零件、玻璃或金屬板、硬幣、手表零件和珠寶、鏡片、光學醫療設備裝置。

工藝溫度:

·         50 – 400°C

典型工藝:

·         Al2O3, ZnO, TiO2

基板加載:

·         帶載盤的手動裝載

前驅體:

·         液體、固體、氣體、臭氧

·         共六管,最多可配備十管

PicosonP-1000 ALD系統設計用于在生產環境中批量處理各種三維物品,如機械零件、硬幣、手表零件和珠寶、鏡片、光學和醫療設備裝置。主要應用包括各種鈍化和阻擋層,以顯著提高涂層產品的性能和壽命。PicosunP-1000 ALD系統提供創新和靈活的設計,以實現最高質量的ALD沉積,具有卓越的均勻性、最大的產量、最小的系統停機時間和低的擁有成本以及經生產驗證的流程。

PicosonP-1000 ALD系統可靠、快速且易于維護,是工業ALD的前沿。

 

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