生產設備

ALD原子層沉積系統(P-1000)

ALD原子層沉積系統(P-1000)

PicosunP-1000 ALD系統設計用于批量噴涂各種3D物品,如機械零件、玻璃或金屬板、硬幣、手表零件和珠寶、透鏡、光學器件和醫療設備。 技術特點: 典型基板尺寸和類型: 各種三維物品,...

ALD原子層沉積系統(P-300F)

ALD原子層沉積系統(P-300F)

? 200 mm wafers in batches up to 50 pcs ? 150 mm wafers in batches up to 50 pcs ? 100 mm wafers in batches up to 50 pcs ? High aspect ratio samples (up to 1:2500) ? Substrate materials: Si, glass, quartz, SiC, GaN, GaAs, LiNbO3, LiTaO3, ...

整片器

整片器

產品描述:晶圓整片器。整體為金屬結構,轉軸高度可調控。...

RTA快速升溫設備

RTA快速升溫設備

快速退火爐可分為RTA300、RTA200、RTA150三種機型。可運用于高溫退火、擴散、熱氧化處理、納米粒子制程、LED/III-V族半導體合金化-減少歐姆接觸、ITP回熔、多晶矽退火…...

真空脫泡攪拌機

真空脫泡攪拌機

本機器主要應用在LED、LCD、SMT、醫療器械、電子元器件、納米分子材料、精細化工材料、印刷電子材料、電子封裝材料以及新能源材料等高、尖、精產品的材料的混合攪拌領域。...

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